반도체 단위 공정
안녕하세요! 인생루틴 입니다. 반도체 산업에 관심이 있다면 꼭 알아야 할 내용을 정리해봤습니다. 어렴풋이 알고는 있지만 개념을 다시 정리하고 싶으신 분들을 위해 준비해보았습니다. 오늘 알아볼 내용은 반도체 단위 공정 요약(Summary)입니다. 단위 공정은 크게 분류해보면 8가지로 분류해 볼 수 있습니다. : Photo, Etch, Clean, Ion Implant, Thin Film, CMP, Diffusion, Metal 1. Photo (사진 공정) Wafer에 패턴을 만들기 위해 패턴이 그려진 Mask를 이용하여 PR(Photo Resist) 도포 후 Mask를 정렬, 노광, 현상하는 공정 2. Etch (식각 공정) 원하는 구조를 만들기 위해 Photo 현상 후 드러난 막질이나 실리콘을 화학적,..
2022. 10. 29.
플라즈마의 특성
반도체 공정을 이해하기에 앞서 반드시 알아야 할 플라즈마의 특성에 대해 알아보자. 1. 플라즈마(Plasma) 고체, 액체, 기체에 이은 '제4의 물질 상태'라고 하는 플라즈마는 기체 상태의 분자나 원자가 이온화되어 양이온과 전자가 섞여 있지만 전체적으로는 중성 상태인 이온화 가스이다. 반도체 공정에서 사용하는 플라즈마는 기체 분자 중 한 개 정도가 이온화되어 있는 저온 플라스마이다. 플라즈마는 일종의 기체상 태이지만 이온과 전자의 존재로 인해 전기 전도체이고, 자기장에 의해 영향을 받는 특성이 있다. ① 플라즈마의 분류 플라즈마는 압력, 온도, 소스에 따라 분류할 수 있다. 압력 : 진공 플라즈마, 대기압 플라즈마 온도 : 열 플라즈마, 저온 플라즈마 소스 : DC, AC, MF, RF, MW ② 플라..
2022. 10. 28.
